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Chiller主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫，裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成，采用先進的控制算法，提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。在帶負載的情況下控溫精度可達±0.5℃，可在-20℃~85℃之間任意控溫，有良好的溫度穩定性。

更新時間：2025-08-12

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Chiller半導體溫控設備主要用于半導體制程中對多路反應腔室的精準控溫，裝置由熱交換器、循環泵、壓縮機和控制系統構成，采用先進的控制算法，提高了chiller的穩定性、控溫精度和反應速度。

更新時間：2025-08-12

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Chiller半導體溫控裝置，可從高溫300℃直接制冷降溫，低溫可達-150℃，控溫精度0.5℃智能型控溫，性能穩定，應用于石化、醫藥、生化、凍干、軍工等高科技行業……

更新時間：2025-08-12

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PTXF半導體溫控系統基于高級動態控制系統，同時采用進口鉑電阻溫度傳感器，每次都能實現一致的控制結果，大大提升產品生產的穩定性。

更新時間：2025-08-12

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半導體制冷冷水機可以廣泛應用于民用和工業領域，例如醫院、工廠等場所。主要應用于夾套反應釜、微通道反應器、反應裝置、組合化學等冷熱源動態恒溫控制以及制藥行業中的低溫蒸餾、萃取等設備中。

更新時間：2025-08-12

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半導體制冷技術利用的是半導體材料在電流通過時表現出的熱電效應，特別是Peltier effect。當電流通過由兩種不同導電性能的半導體材料組成的熱電偶時，會在接觸界面上產生熱量的轉移，一側吸收熱量形成冷端，另一側釋放熱量形成熱端。

更新時間：2025-08-12

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